四氟化碳分子式CF4，常溫下為無色氣體，四氟化碳只能微溶于水；對熱非常穩定，化學性質比四氯化碳更不活潑。分子呈正四面體結構。四氟化碳是目前微電子工業中用量最大的等離子蝕刻氣體，其高純四氟化碳高純氣配高純氧氣的混合體。但此外四氟化碳也是一種造成溫室效應的氣體。它非常穩定，可以長時間停留在大氣層中，是一種非常強大的溫室氣體。它在大氣中的壽命約為50,000年，全球增溫(全球暖化)系數是6,500（二氧化碳的系數是1），所以去除生產過程中不必要的四氟化碳氣體非常重要。近期有一實驗對去除四氟化碳氣體作出了研究，接下來我們就來了解一下！

  不同添加氣體對微波電漿反應器分解四氟化碳之影響分析 

  本研究以低溫微波電漿反應器探討加入不同比例的添加氣體對于全氟化物(Perfluorinated Compounds,PFCs)的分解去除效率(Decomposition and Remocal Efficiency, DRE)的影響，實驗中採用傅立葉轉換紅外光譜儀（FTIR）來定量分析DRE值，并對處理后的產物分析、系統能量損耗及經濟價值考量來進行討論。

  實驗中使用自行設計之微波電漿反應器，以CF4為模式氣體，配合多種參數設定：CF4進流量、添加氣體（氬氣、一般空氣、甲烷、氮氣與氧氣）與微波電漿輸出功率大小，在控制總進流量的情況下探討不同添加氣體對微波電漿系統處理CF4的分解去除效率。經適當修正各個操作參數后（微波電漿功率900W、頻率200Hz、總進流量500sccm、添加氣體為100sccm空氣），DRE值可從14.7%（無添加氣體）提升至37.6%，且可獲得較高的能量效益與成本效益。

  在添加氣體方面，添加氣體可提高系統對CF4的去除率，不同的添加氣體對CF4之DRE值有10%~40%的提升，其中以添加100sccm氬氣提升的DRE值最多（40%）。以微波電漿輸出功率方面而言，提高電源輸出功率表示輸出的微波能量增加，所以對系統處理CF4可以得到較高的去除率；但因本研究受流量控制及電源輸出功率的限制，故DRE值較其他研究者低，如能將電漿功率提升應更能提高DRE值。在產物分析方面，則以傅立葉轉換紅外光譜儀（FTIR）分析CF4經電漿火炬分解后之氣體，發現產物有CO2、H2O、HF、NO2和未分解的CF4。

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