氯氣，化學式為Cl?。常溫常壓下為黃綠色有毒氣體，易壓縮,可液化為金黃色液態氯。氯氣在早期作為造紙、紡織工業的漂白劑。氮氣，化學式為N2，通常狀況下是一種無色無味的氣體，且通常無毒。由于氮的化學惰性，常用作保護氣體，如：瓜果，食品，燈泡填充氣。液氮還可用作深度冷凍劑.高純氮氣用作色譜儀等儀器的載氣。用作銅管的光亮退火保護氣體。跟高純氦氣、高純二氧化碳一起用作激光切割機的激光氣體。氮氣也作為食品保鮮保護氣體的用途。無論是氮氣還是氯氣，都是常見的化學氣體，今天紐瑞德特氣小編月月為大家介紹一下當氯氣遇到氮氣，氯氣/氮氣混合電漿蝕刻的過程會變得如何有趣！
 

  電漿蝕刻製程中，離子通量與離子轟擊能量為影響蝕刻率的兩個關鍵電漿參數。為了穩定蝕刻率，本研究使用傳輸線式微波干涉儀與射頻阻抗計做為電漿密度、離子電流與射頻峰值電壓的感測器，分別發展出兩套回授控制系統。第一套系統為雙變數回授控制電漿密度與射頻峰值電壓，第二套系統為雙變數回授控制離子電流與射頻峰值偏壓。兩套系統的致動器皆為兩部13.56 MHz的射頻功率產生器，一部供應電漿功率，可調整電漿密度或離子電流；另一部提供射頻偏壓功率，可調整射頻峰值電壓。

  在蝕刻至介面層時，通常會降低偏壓功率以避免過蝕刻的情形，但功率/電壓法應用在低偏壓條件下將低估離子電流值，故在設計第二套系統前，先以實驗數據建構出類神經網路，使量測的離子電流經過網路修正后可反應真實的離子電流值，再實現其回授控制系統，最后分別在兩套系統上規劃以開迴路與閉迴路兩種控制方式進行實驗。實驗結果顯示在穩定的氯氣/氮氣電漿狀態下，雙變數回授控制離子電流與峰值偏壓可有效穩定蝕刻率，而回授控制電漿密度與峰值偏壓的效果則不理想。

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