很多客戶都在紐瑞德特種氣體購買過甲烷氣體，但是大家聽說過三氟甲烷么？從名字上看來三氟甲烷很像甲烷氣體的“親戚“是不是？其實三氟甲烷也是烷烴類的氣體之一，三氟甲烷，又稱三氟甲，是一種無色、微味，不導電的氣體，是理想的鹵代烷替代物。三氟甲烷主要用作低溫（-100℃）制冷劑，電子工業等離子體化學蝕刻劑及氟有機化合物的原料。紐瑞德特氣小編月月就為大家介紹一下三氟甲烷在高周波電漿系統中的反應機制以便大家更好的了解三氟甲烷這個產品。

  本研究系利用高周波電漿系統處理CCl2F2及CHF3，以部份因素配置法及敏感度分析，探討各個操作參數（輸入功率、O2/CCl2F2比例、H2/CCl2F2比例或O2/CHF3比例、H2/CHF3比例、操作壓力及CCl2F2或CHF3進流濃度）對CCl2F2或CHF3分解率（ηCCl2F2或η’CHF3）及轉化率（輸入總碳轉化成CO2比例(FCO2) 或CH4和C2H2(FCH4+C2H2)）之影響，并嚐試推演CCl2F2及CHF3于電漿系統中之可能反應機制。操作參數之敏感度分析結果顯示，就ηCCl2F2、η’CHF3或FCO2、FCH4+C2H2而言，輸入功率及CCl2F2或CHF3進流濃度系影響分解率及轉化率之相對重要因素。
另一方面，實驗結果顯示，利用氧電漿分解CCl2F2或CHF3，其主要之含碳產物系CO2，而利用氫電漿分解CCl2F2或CHF3，其主要之含碳產物系CH4和C2H2。利用氧電漿分解CCl2F2，約有30%的Cl2生成，此現象可能系因為OC=O的高鍵能和CF4中的C-F高鍵能使得氯與碳原子之間的反應機會大大降低，進而降低了生成其他含氯碳化物的機會，進而使得分離出之氯互相碰撞之機會增加；再者，SiF4的Si-F高鍵能同樣地阻礙了F與其他離子或自由基反應形成其他含氟碳化物的機會，使得生成之氟碳化物莫耳分率大部份皆小于5%。

  采用氫電漿來分解CCl2F2或CHF3，因氫之加入而生成大量之HCl或HF（可利用洗滌法或中和法去除之），并抑制了其他氟氯化物或氟化物之形成，且易生成可再利用之CH4和C2H2，雖然氫電漿之去除效率不若氧電漿，但基于上述優點，利用氫電漿來分解CCl2F2或CHF3系提供了另一處理途徑。
此外，在電腦模擬方面，利用建立之包含有37種物種及70個電漿分解CHF3/H2/Ar氣體基元反應式，進行模擬實驗中各種不同操作情況下之CHF3分解與產物生成率，再與實驗值比較后，藉敏感度分析得知電漿中CHF3易和第三分子作用而分解成CF2和HF，以進行后續一連串之反應。研究發現生成CHxFy自由基系形成CH4之重要前驅物，而生成CHx自由基系形成C2H2之重要前驅物。

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