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99.999%（5N）高純四氟化碳
產(chǎn)品分類：四氟化碳更多 +
純度：99.999%（5N）
包裝：鋼質(zhì)無縫氣瓶
CAS:75-73-0
EINECS:200-896-5
分子式：CF4
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四氟化碳?xì)怏w在微電子蝕刻中的應(yīng)用解析
四氟化碳?xì)怏w在微電子工業(yè)中被廣泛應(yīng)用于蝕刻技術(shù)，包括晶圓制造、太陽能電池板制造和線路板制造。紐瑞德是一家專注于高純四氟化碳氣體供應(yīng)的制造商。需要高純四氟化碳氣體的客戶可以聯(lián)系武漢紐瑞德供應(yīng)商。更多 +
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四氟化碳——不可或缺的工業(yè)氣體
四氟化碳是工業(yè)中不可或缺的氣體，廣泛應(yīng)用于微電子、塑料行業(yè)和金屬冶煉等領(lǐng)域。本文介紹了四氟化碳的性質(zhì)、應(yīng)用及安全存放規(guī)范，并推薦了一家可靠穩(wěn)定的高純四氟化碳供應(yīng)商。更多 +
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四氟化碳是什么？有什么用？
四氟化碳又稱四氟甲烷，被視為一種無機(jī)化合物。用于各種集成電路的等離子刻蝕工藝，也用作激光氣 體及制冷劑。常溫常壓下比較穩(wěn)定，但是需要避免接觸強(qiáng)氧化劑、易燃或可燃物。四氟化碳是不燃?xì)怏w， 如果遇到高熱后會(huì)造成容器內(nèi)壓增大，有開裂、爆炸危險(xiǎn)。通常常溫下只會(huì)與液氨-金屬鈉試劑能發(fā)生作 用。更多 +
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氣相色譜法測(cè)定高純四氟化碳中三氟化氮雜質(zhì)的方法
四氟化碳這種含氟有機(jī)化合物作為蝕刻二氧化硅和氧化硅這樣的介質(zhì)材料已成熟運(yùn)用多年，也是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體。其混合氣體即四氟化碳和氧氣的混合、與氫的混合均在硅系列、薄膜蝕刻領(lǐng)域廣泛應(yīng)用。同時(shí)在低溫下可作為低溫流體用，也在制冷、體絕緣、氟化劑、表面處理劑和激光氣體泄露檢驗(yàn)劑有一定的應(yīng)用空間。四氟化碳的廣泛應(yīng)用，其產(chǎn)品質(zhì)量要求也相應(yīng)的較為明確、規(guī)范。目前行業(yè)內(nèi)較為成熟的分析方法主要檢測(cè)四氟化碳中的氧（O2）、氮（N2）、一氧化碳（CO）、二氧化碳（CO2）、六氟化硫（SF6）、水（H2O）更多 +
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如何去除四氟化碳？降低溫室效應(yīng)
四氟化碳分子式CF4，常溫下為無色氣體，四氟化碳只能微溶于水；對(duì)熱非常穩(wěn)定，化學(xué)性質(zhì)比四氯化碳更不活潑。分子呈正四面體結(jié)構(gòu)。四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體，其高純四氟化碳高純氣配高純氧氣的混合體。但此外四氟化碳也是一種造成溫室效應(yīng)的氣體。它非常穩(wěn)定，可以長(zhǎng)時(shí)間停留在大氣層中，是一種非常強(qiáng)大的溫室氣體。它在大氣中的壽命約為50,000年，全球增溫(全球暖化)系數(shù)是6,500（二氧化碳的系數(shù)是1），所以去除生產(chǎn)過程中不必要的四氟化碳?xì)怏w非常重要。 不同添加氣體對(duì)微波電漿更多 +
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四氟化碳?xì)怏w處理快閃記憶體的應(yīng)用你知道么
四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體，其高純氣及四氟化碳高純氣配高純氧氣的混合體，可廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢薄膜材料的蝕刻。今天紐瑞德特氣小編月月為大家?guī)硎褂盟姆茧姖{處理三氧化鉬之電荷捕捉層在快閃記憶體的應(yīng)用介紹。更多 +
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