-
硫化氫氣體的用途和制法
硫化氫是一種無機(jī)化合物，分子式為H2S，分子量為34.076。在標(biāo)準(zhǔn)條件下，它是一種炎癥性酸性氣體，無色（透明），肉眼看不見，但會刺激眼睛。當(dāng)濃度較低時，會有臭雞蛋的氣味，當(dāng)濃度很低時，會有硫磺的氣味（這會很快導(dǎo)致嗅覺疲勞和癱瘓，任何通過感官檢測硫化氫的方法都是不可取的），這是一種劇毒的氣味。其水溶液為氫硫酸，其酸性低于碳酸，但比硼酸強(qiáng)。易溶于水，易溶于醇類、石油溶劑和原油。 硫化氫是一種易燃和危險的化學(xué)品，與空氣混合時會形成爆炸性混合物，在明火和高熱的情況下會導(dǎo)致燃燒和爆炸。硫化氫是一種重要的化工原更多 +
-
高純氣體的常見雜質(zhì)有哪些?
高純氣體的常見雜質(zhì)有哪些? 常規(guī)雜質(zhì)：H2, O2, N2, Ar, CO, CO2, CH4, H2O 特殊雜質(zhì)：顆粒物、油份、金屬離子、同位素物質(zhì)污染、亞穩(wěn)態(tài)物質(zhì)污染 雜質(zhì)來源：原料污染、生產(chǎn)工藝副產(chǎn)物、工藝失效污染、過程污染 環(huán)境帶入：空氣組分(O2, N2, Ar, CO2), 水分 生產(chǎn)裝置，管路，充裝裝置帶入：水分，金屬元素，顆粒物，油份 生產(chǎn)工藝富集 包裝污染 殘氣污染 包裝本身帶入污染：水分，金屬元素，顆粒物 分解聚合污染 &更多 +
-
什么是標(biāo)準(zhǔn)氣體組分的相容性
如果產(chǎn)生氮氣中的氮氧化物標(biāo)準(zhǔn)氣體，如果氮氣中含有高純度的氧氣或在填充過程中帶入氧氣，則混合氣體將為NO2/N2。類似的問題可以總結(jié)如下： 1.酸性和堿性氣體 常見的酸性氣體包括：HCl、H2S、so NO2、有機(jī)酸等。不能與堿混合，如氨氣和有機(jī)胺裝在氣瓶內(nèi)； 還原氣體和氧化氣體不相容，不能裝入一個氣瓶，如H2S和SO2、H2S和NO2、H2和Cl2等。 3.可燃或自燃?xì)怏w和氧化性氣體 如果易燃?xì)怏w和氧化氣體裝在同一個氣瓶內(nèi)，超過最低爆炸極限或超過最低耗氧量，則有爆炸風(fēng)險。由于易燃?xì)怏w、更多 +
-
標(biāo)準(zhǔn)氣體中一些組分的導(dǎo)熱系數(shù)
標(biāo)準(zhǔn)氣體中一些組分的導(dǎo)熱系數(shù) 組分名稱 4.18*107w(m.k) 組分名稱 4.18*107w(m.k) 0℃ 100℃ 0℃ 100℃ 空氣 5.8 7.5 CHCL3 1.6 2.5 H2 41.6 53.4 CH2CL2 1.6 2.7 He 34.8 51.6 CH3CL 2.2 4.0 N2 5.8 7.5 CH3BR更多 +
-
標(biāo)準(zhǔn)氣體組分的相容性
如果配制氮中一氧化氮標(biāo)準(zhǔn)氣體，如果高純氮中含有氧或充裝中帶入氧，那么混合氣體就變成了NO2/N2了。類似的問題總結(jié)為以下三點： 1、酸性氣體和堿性氣體 常見的酸性氣體包括：HCL、H2S、SO、NO2、有機(jī)酸等不能和堿性，如NH3及有機(jī)胺充入一個氣瓶中； 2、還原性氣體和氧化性氣體不相容，不能充裝在一個氣瓶中，如：H2S和SO2，H2S和NO2，H2和Cl2等。 3、可燃或不可燃?xì)怏w與氧化性氣體 如果在爆炸下限以上或最小需氧量以上將可燃?xì)怏w和氧化性氣體充入同一個氣瓶中，會有爆炸的危險。更多 +
-
常見的焊接混合氣保護(hù)氣
焊接混合氣：用于氣體保護(hù)焊接，是在手工電弧焊和埋弧自動焊廣泛應(yīng)用的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的一種焊接新工藝。在多年氣體保護(hù)電弧焊的實踐中發(fā)現(xiàn)，用混合氣體代替單一純氣體作保護(hù)氣，可以有效地細(xì)化熔滴、減小飛濺、改善成形、控制熔深、防止缺陷和降低氣孔生成率，因而，可以顯著提高焊件的焊接質(zhì)量。 常用的二元焊接混合氣有Ar-He、Ar-N2、Ar-H2、Ar-O2、Ar-CO2、CO2-O2、N2-H2等；可根據(jù)客戶需求配制。配制混合氣用的Ar、H2、N2、CO2等氣體，純度為更多 +
-
氟化物氣體應(yīng)用
COF2；有機(jī)合成中間體，氟化劑。 CHF3；蝕刻，冷凍劑，有機(jī)合成。 CH2F2；致冷劑。 CH3F；噴霧劑，C-F鍵的研究。 WF6；氟化劑，鎢載體，化學(xué)氣相沉積。 SF6；電子設(shè)備，雷達(dá)波導(dǎo)，粒子加速器，變壓器，避雷器的氣 絕緣體，制冷劑，示蹤裝置，醫(yī)療，半導(dǎo)體制造中的蝕刻、化學(xué)氣相沉積，標(biāo)準(zhǔn)氣，檢漏氣體，色譜儀的載氣。 NF3；火箭推進(jìn)劑，氟化劑，電子氣，等離子干刻，摻雜，激光，光導(dǎo)纖維 。 S更多 +
-
碳?xì)浠衔餁怏w應(yīng)用
CH4；燃料，標(biāo)準(zhǔn)氣，校正氣，太陽能電池，非晶硅膜，乙烴、氫氣、合成氨、二硫化碳等生產(chǎn)原料。 C3H8；有機(jī)合成，燃料、溶劑，制造乙烯、丙烯等，冷凍劑，標(biāo)準(zhǔn)氣，校正氣，等離子干刻。 C2H6；蝕刻氣，標(biāo)準(zhǔn)氣，校正氣，冶金工業(yè)熱處理，制備乙烯等原料，燃料，冷凍劑。 C2H2；金屬的焊接和切割，有機(jī)合成，原子吸收光譜，標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣、合成橡膠、照明。 C2H4；標(biāo)準(zhǔn)氣，校正氣，生產(chǎn)聚乙烯等原料，香蕉水果等成熟劑，冷凍劑，焊接和切割，合成纖維。更多 +
-
氫化物氣體應(yīng)用
H2Se；實驗用，摻雜氣，制備硒化物，擴(kuò)散、離子注入。 H2S；化學(xué)分析，金屬的精制，各種工業(yè)試劑、農(nóng)藥、醫(yī)藥品、螢光體、電發(fā)光、半導(dǎo)體光電曝光儀，硫及各種硫化物的制備，有機(jī)合成的還原劑、標(biāo)準(zhǔn)氣、校正氣、等離子干刻。 AsH3，擴(kuò)散、外延生長，離子注入，化合物半導(dǎo)體用氣體，化學(xué)氣相沉積。 PH3；縮合催化劑，聚合引發(fā)劑，磷的有機(jī)化合物制備，發(fā)生氣體，外延生長、擴(kuò)散、離子注入，蝕刻，化學(xué)氣相沉積，糧倉的殺蟲藥。 NH3；氮肥，銨鹽，硝酸，尿素，丙烯腈，藥品染料，金屬更多 +
相關(guān)搜索
熱點聚焦
- 1華中科技大學(xué)國家重點實驗室
- 2國網(wǎng)甘肅省電力公司檢修公司
- 3荊門億緯創(chuàng)能鋰電池有限公司
- 4國家電網(wǎng)公司換流站
- 5武漢第二電線電纜有限公司
- 6中船重工安譜（湖北）儀器有限公司
- 7湖北三寧化工股份有限公司
- 8中標(biāo)公告：中國人民解放軍63762部隊
- 9武漢長盈通光電技術(shù)股份有限公司
- 10?；焚徺I須知
- 11液化氣體的用途
- 12稀有氣體的廣泛應(yīng)用
- 13氪氣在窗玻璃制造業(yè)中的應(yīng)用
- 14氙氣在平板電視制造和空間衛(wèi)星產(chǎn)業(yè)中的應(yīng)用
- 15氙氣在醫(yī)療行業(yè)和電子芯片制造中的應(yīng)用
