H2Se；實驗用，摻雜氣，制備硒化物，擴散、離子注入。

H2S；化學分析，金屬的精制，各種工業試劑、農藥、醫藥品、螢光體、電發光、半導體光電曝光儀，硫及各種硫化物的制備，有機合成的還原劑、標準氣、校正氣、等離子干刻。

AsH3，擴散、外延生長，離子注入，化合物半導體用氣體，化學氣相沉積。

PH3；縮合催化劑，聚合引發劑，磷的有機化合物制備，發生氣體，外延生長、擴散、離子注入，蝕刻，化學氣相沉積，糧倉的殺蟲藥。

NH3；氮肥，銨鹽，硝酸，尿素，丙烯腈，藥品染料，金屬表面氮化，制冷劑，半導體用氣體，氧化、氮化膜，化學氣相沉積，標準氣、校正氣、在線儀表標準氣。

GeH4；化學試劑，制取高純度鍺，化學氣相沉積，擴散、非晶硅，外延、離子注入。

Si2H6；太陽能電池，非晶硅膜，外延生長，氧化膜，氮化膜，化學氣相沉積。

SiH4；硅的外延生長，多晶硅、氧化硅、氮化硅的原料，太陽能電池，光導纖維，有色玻璃制造，化學氣相沉積。

B2H6；半導體制造中的擴散和氧化、外延生長，化學氣相沉積。

H2；氣體燃料，石油精煉，制造油脂、硬化油等人造奶油，甲醇、氨等合成，焊接和金屬的切割，氣象觀測，玻璃的融化，冶金工業，冷卻劑（液氫），半導體制造用平衡氣，蝕刻氣，標準氣，零點氣，校正氣，熱氧化、外延、擴散、多晶硅、鎢化、離子注入、載流、燒結等。