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氣相色譜法測定高純四氟化碳中三氟化氮雜質的方法
四氟化碳這種含氟有機化合物作為蝕刻二氧化硅和氧化硅這樣的介質材料已成熟運用多年，也是目前微電子工業中用量最大的等離子蝕刻氣體。其混合氣體即四氟化碳和氧氣的混合、與氫的混合均在硅系列、薄膜蝕刻領域廣泛應用。同時在低溫下可作為低溫流體用，也在制冷、體絕緣、氟化劑、表面處理劑和激光氣體泄露檢驗劑有一定的應用空間。四氟化碳的廣泛應用，其產品質量要求也相應的較為明確、規范。目前行業內較為成熟的分析方法主要檢測四氟化碳中的氧（O2）、氮（N2）、一氧化碳（CO）、二氧化碳（CO2）、六氟化硫（SF6）、水（H2O）更多 +
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如何去除四氟化碳？降低溫室效應
四氟化碳分子式CF4，常溫下為無色氣體，四氟化碳只能微溶于水；對熱非常穩定，化學性質比四氯化碳更不活潑。分子呈正四面體結構。四氟化碳是目前微電子工業中用量最大的等離子蝕刻氣體，其高純四氟化碳高純氣配高純氧氣的混合體。但此外四氟化碳也是一種造成溫室效應的氣體。它非常穩定，可以長時間停留在大氣層中，是一種非常強大的溫室氣體。它在大氣中的壽命約為50,000年，全球增溫(全球暖化)系數是6,500（二氧化碳的系數是1），所以去除生產過程中不必要的四氟化碳氣體非常重要。 不同添加氣體對微波電漿更多 +
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電子特氣產品開始全新突破
電子特氣被稱為半導體材料的“糧食”和“源”。更多信息請點擊：，或者撥打我們的熱線電話：400-6277-838 在微電子、光電子器件生產過程中,從芯片生長到最后器件的封裝,幾乎每一步、每一個環節都離不開電子氣體,因此電子氣體被稱為半導體材料的“糧食”和“源”。電子氣體成本占IC材料總成本的5%-6%,雖然看似占比不大,但是很大程度上決定了半導體器件性能的好壞。電子氣體純度每提高一個數量級,都會極更多 +
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電子氣體的發展將無法估量
我國特種氣體市場起步較晚，所以在技術領域較國外巨頭企業有一定的差距，也正是因為如此特種氣體市場長期被外企所壟斷。但近年來國內電子氣體奮起直追，表現格外搶眼。伴隨著國民經濟的發展，特別是21世紀后我國電子行業的突飛猛進，國內特種氣體公司意識到了專有技術的重要性。我國在特種氣體生產、儲存等領域上取得了重要突破，特別是電子特氣目前基本實現了國產化，基本打破了國外企業的壟斷。更多信息請點擊，或者撥打我們的熱線電話：400-6277-838 近年來我國微電子、光電子等電子信息產業高速發展，促更多 +
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四氟化碳氣體處理快閃記憶體的應用你知道么
四氟化碳是目前微電子工業中用量最大的等離子蝕刻氣體，其高純氣及四氟化碳高純氣配高純氧氣的混合體，可廣泛應用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢薄膜材料的蝕刻。今天紐瑞德特氣小編月月為大家帶來使用四氟化碳電漿處理三氧化鉬之電荷捕捉層在快閃記憶體的應用介紹。更多 +
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六氟化硫在氮化硅蝕刻中的作用
六氟化硫是一種絕緣性極佳的氣體，經常被用于高壓滅弧以及變電器、高壓傳輸線、互感器等當中。但是六氟化硫除了這些功能以外，也可以作為電子蝕刻劑使用。電子級高純六氟化硫是一種理想的電子蝕刻劑，被大量應用于微電子技術領域。今天紐瑞德特氣小編月月就為大家介紹一下六氟化硫在氮化硅蝕刻中的應用和不同參數的影響吧。更多 +
