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四氟化碳、三氟甲烷、六氟丁二烯電子行業(yè)中重要的蝕刻氣體
蝕刻是電子行業(yè)重要工藝，蝕刻所用氣體稱蝕刻氣體, 通常多為氟化物氣體, 例如四氟化碳、全氟丁二烯、三氟化氮、六氟乙烷、全氟丙烷、三氟甲烷等。 作為新一代環(huán)保電子氣體，電子級(jí)C4F6成為集成電路IC芯片等制造時(shí)必不可少的刻蝕氣體，其GWP值簡直為0，而且能完結(jié)納米級(jí)溝槽的加工，成為電子工業(yè)領(lǐng)域內(nèi)一把神奇的“刻刀”，比γ刀還γ！ 2015年，浙化院特種氣體研發(fā)團(tuán)隊(duì)提出自主開發(fā)新一代含氟電子氣體C4F6的提純技能。 今天紐小編就帶大家一起看看C4F6是怎樣更多 +
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四氟化碳在微電子行業(yè)的應(yīng)用
四氟化碳，又稱為四氟甲烷。它既可以被視為一種鹵代烴、鹵代甲烷、全氟化碳，也可以被視為一種無機(jī)化合物。所以在電子行業(yè)中制作線路板蝕刻過程中，需要使用四氟化碳。在蝕刻過程中，用四氟化碳將多余的銅皮腐蝕掉，附有油墨的電路上銅皮得以保留，之后再用四氟化碳進(jìn)行清洗電路上的油墨再烘干，等工藝。 四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體，也可以廣泛應(yīng)用于硅、二氧化硅、氮化硅，磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗，太陽能電池的生產(chǎn)，鋁合金門窗制造、激光技術(shù)、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗(yàn)劑、控更多 +
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蝕刻技術(shù)中特種氣體的作用
硅片的蝕刻氣體（特種氣體）主要是氟基氣體,包括四氟化碳、四氟化碳/氧氣、六氟化硫、六氟乙烷/氧氣、三氟化氮等。但由于其各向同性,選擇性較差,因此改進(jìn)后的蝕刻氣體通常包括氯基(Cl2)和溴基(Br2、HBr)氣體。反應(yīng)后的生成物包括四氟化硅、四氯硅烷和SiBr4。鋁和金屬復(fù)合層的蝕刻通常采用氯基氣體,如CCl4、Cl2、BCl3等。產(chǎn)物主要包括AlCl3等 蝕刻是采用化學(xué)和物理方法,有選擇地從硅片表面去除不需要的材料的過程。刻蝕的目的是在涂膠的硅片上正確地復(fù)制掩膜圖形。刻蝕分為濕法蝕更多 +
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氣相色譜法測(cè)定高純四氟化碳中三氟化氮雜質(zhì)的方法
四氟化碳這種含氟有機(jī)化合物作為蝕刻二氧化硅和氧化硅這樣的介質(zhì)材料已成熟運(yùn)用多年，也是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體。其混合氣體即四氟化碳和氧氣的混合、與氫的混合均在硅系列、薄膜蝕刻領(lǐng)域廣泛應(yīng)用。同時(shí)在低溫下可作為低溫流體用，也在制冷、體絕緣、氟化劑、表面處理劑和激光氣體泄露檢驗(yàn)劑有一定的應(yīng)用空間。四氟化碳的廣泛應(yīng)用，其產(chǎn)品質(zhì)量要求也相應(yīng)的較為明確、規(guī)范。目前行業(yè)內(nèi)較為成熟的分析方法主要檢測(cè)四氟化碳中的氧（O2）、氮（N2）、一氧化碳（CO）、二氧化碳（CO2）、六氟化硫（SF6）、水（H2O）更多 +
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如何去除四氟化碳？降低溫室效應(yīng)
四氟化碳分子式CF4，常溫下為無色氣體，四氟化碳只能微溶于水；對(duì)熱非常穩(wěn)定，化學(xué)性質(zhì)比四氯化碳更不活潑。分子呈正四面體結(jié)構(gòu)。四氟化碳是目前微電子工業(yè)中用量最大的等離子蝕刻氣體，其高純四氟化碳高純氣配高純氧氣的混合體。但此外四氟化碳也是一種造成溫室效應(yīng)的氣體。它非常穩(wěn)定，可以長時(shí)間停留在大氣層中，是一種非常強(qiáng)大的溫室氣體。它在大氣中的壽命約為50,000年，全球增溫(全球暖化)系數(shù)是6,500（二氧化碳的系數(shù)是1），所以去除生產(chǎn)過程中不必要的四氟化碳氣體非常重要。 不同添加氣體對(duì)微波電漿更多 +
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四氟化碳的熱導(dǎo)率的研究報(bào)告
四氟化碳又稱四氟甲烷,分子量為88.01,無色無味氣體.微溶于水,在25℃、1大氣壓時(shí)，溶解度為0。0015%（重量）。常溫下是壓縮氣體。更多信息請(qǐng)點(diǎn)擊：，或者撥打我們的熱線電話：400-6277-838 熔點(diǎn)-183.6℃ 臨界溫度-45.67℃ 沸點(diǎn)-128.1℃ 臨更多 +
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四氟化碳生產(chǎn)廠家工藝揭秘
四氟化碳生產(chǎn)廠家的工藝揭秘，今天紐瑞德小編就帶你一起來看一下，更多信息請(qǐng)點(diǎn)擊：，或者撥打我們的熱線電話：400-6277-838 1.由碳與氟反應(yīng)，或一氧化碳與氟反應(yīng)，或碳化硅與氟反應(yīng)，或氟石與石油焦在電爐里反應(yīng)，或二氟二氯甲烷與氟化氫反應(yīng)，或四氯化碳與氟化銀反應(yīng)，或四氯化碳與氟化氫反應(yīng)，都能生成四氟化碳。四氯化碳與氟化氫的反應(yīng)在填有氫氧化鉻的高溫鎳管中進(jìn)行，反應(yīng)后的氣體經(jīng)水洗、堿洗除去酸性氣體，再通過冷凍，用硅膠除去氣體中的水分，最后經(jīng)精餾而得成品。 2.預(yù)更多 +
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四氟化碳到底有沒有毒性？
四氟化碳是一種無色、無臭、不燃的易壓縮性氣體，揮發(fā)性較高，同時(shí)也是最穩(wěn)定的有機(jī)化合物之一，不溶于水。那么四氟化碳有沒有毒性的呢？今天的小編為你介紹一下四氟化碳的知識(shí)，更多信息請(qǐng)點(diǎn)擊：，或者撥打我們的熱線電話：400-6277-838更多 +
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進(jìn)口高純氙氣市場規(guī)模
近年來，我國高新技術(shù)持續(xù)快速發(fā)展，計(jì)算機(jī)工業(yè)對(duì)大規(guī)模集成電路及液晶顯示器的需求大量增加。近年來，我國大力發(fā)展新型能源，市場對(duì)多晶硅太陽能電池和薄膜太陽能電池的需求量也與日俱增。此外，新型電光源、光電半導(dǎo)體器件、光纖通訊器件也獲得迅猛發(fā)展，在上述高新產(chǎn)品的生產(chǎn)中，都需要大量氙氣 氦氣、氪氣、氖氣、氙氣、氨氣、四氟化碳、硅烷、八氟環(huán)丁烷、六氟化硫等特種氣體，以制造出性能可靠的各種器件。 隨著我國制造業(yè)的發(fā)展，未來我國工業(yè)對(duì)進(jìn)口高純氙氣需求仍將快速增長，我國特種氣體行業(yè)的市場規(guī)模有望保持20更多 +
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六氟化硫中空氣、四氟化碳含量的測(cè)定
1、 本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了六氟化硫中空氣、四氟化碳含量的測(cè)定，使用氣相色譜測(cè)定法。本標(biāo)準(zhǔn)適用于電氣設(shè)備用六氟化硫中空氣、四氟化碳含量的測(cè)定。 2、 原理 本方法采用氣相色譜儀中空氣、四氟化碳、六氟化硫完全分離，其濃度可以從它們的峰區(qū)面積和被測(cè)化合物對(duì)檢測(cè)器的校正系數(shù)來確定,結(jié)果以中空氣、四氟化碳與六氟化硫的質(zhì)量百分?jǐn)?shù)(％)表示。 3 儀器和材料 3.1 色譜儀更多 +
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