隨著半導體行業(yè)的飛速發(fā)展，對于半導體微制造過程中的高純度和高可靠性要求也越來

越高。而在半導體微制造過程中，清洗、刻蝕、去污等過程都是必不可少的，所以，半

導體具有無與倫比的“潔癖”，因此清潔劑也成為關鍵材料之一。而四氟化碳，就是一種

有效的清潔劑，在半導體行業(yè)發(fā)揮著極端重要的作用。

據(jù)國內(nèi)知名特種氣體公司武漢紐瑞德特種氣體有限公司介紹，四氟化碳由于其優(yōu)良的化

學性質(zhì)，可以有效地清洗半導體表面，潔凈度高、不產(chǎn)生殘留物、容易揮發(fā)、不易燃等

特點，因此被廣泛應用于半導體清洗過程中。

此外，在半導體制造過程中，刻蝕也是一樣重要的一步。而四氟化碳可以通過高頻電力

場使其成為離子，進而起到刻蝕的作用。與其他刻蝕氣體相比，四氟化碳的刻蝕速度較

快，刻蝕后的表面質(zhì)量較好。

在半導體生產(chǎn)過程中，掌握去污技術非常重要。而四氟化碳具有優(yōu)異的物理和化學特性

，可以迅速完成去污任務，且無需腐蝕表面。

與傳統(tǒng)的有機溶劑相比，四氟化碳由于其具有較高的化學活性和刻蝕性，可以加速清潔

過程的完成，減少對清潔板的腐蝕。與純水比較，四氟化碳可以有效地清洗表面高深的

縫隙和污垢，有助于提高清潔度。

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