氮氣-N2

純度要求 99.999%,用作標準氣、在線儀表標準氣、校正氣、零點氣、平衡氣；用于半導體器件制備工藝中外延、擴散、化學氣相淀積、離子注入、等離子干刻、光刻、退火、搭接、燒結等工序；電器、食品包裝、化學等工業也要用氮氣。
2
氧氣-O2
99.995%,用作標準氣在線儀表標準氣、校正氣、零點氣；還可用于醫療氣；在半導體器件制備工藝中用于熱氧化、擴散、化學氣相淀積、等離子干刻等工序；以及用于光導纖維的制備。
3
氬氣-Ar
99.999,用作標準氣、零點氣、平衡氣；用于半導體器件制備工藝中晶體生長、熱氧化、外延、擴散、氮化、噴射、等離子干刻、載流、退火、搭接、燒結等工序；特種混合氣與工業混合氣也使用氫。
4
氫氣-H2
99.999%,用作標準氣、零點氣、平衡氣、校正氣、在線儀表標準氣；在半導體器件制備工藝中用于晶休生長、熱氧化、外延、擴散、多晶硅、鎢化、離子注入、載流、燒結等工序；在化學、冶金等工業中也有用。
5
氦氣-He
99.999%,用作標準氣、零點氣、平衡氣、校正氣、醫療氣；于半導體器件制備工藝中晶體生長、等離子干刻、載流等工序；另外,特種混合氣與工業混合氣也常用。
6
氯氣-Cl2
99.96%,用作標準氣、校正氣；用于半導體器件制備工藝中晶體生長、等離子干刻、熱氧化等工序；另外,用于水凈化、紙漿與紡織品的漂白、下業廢品、污水、游泳池的衛生處理；制備許多化學產品。
7
氟氣-F2
98%,用于半導體器件制備工藝中等離子干刻；另外,用于制備六氟化鈾、六氟化硫、三氟化硼和金屬氟化物等。
8
氨氣-NH3
99.995%,用作標準氣、校正氣、在線儀表標準氣；用于半導體器件制備工藝中氮化工序；另外,用于制冷、化肥、石油、采礦、橡膠等工業。
9
氯化氫-HCI
99.995%,用作標準氣；用于半導體器件制備工藝中外延、熱氧化、擴散等工序；另外,用于橡膠氯氫化反應中的化學中間體、生產乙烯基和烷基氯化物時起氧氯化作用。
10
一氧化氮-NO
99%,用作標準氣、校正氣；用于半導體器件制備工藝中化學氣相淀積主序；制備監控大氣污染的標準混合氣。
11
二氧化碳-CO2
99.99%,用作標準氣、在線儀表標推氣、校正氣；于半導體器件制備工藝中氧化、載流工序警另外,還用于特種混合氣、發電、氣體置換處理、殺菌氣體稀釋劑、滅火劑、食品冷凍、金屬冷處理、飲料充氣、煙霧噴射劑、食品貯存保護氣等。
12
氧化亞氮-N2O,(即笑氣)
99.999%,用作標準氣、醫療氣；用于半導體器件制備工藝中化學氣相淀積、醫月麻醉劑、煙霧噴射劑、真空和帶壓檢漏；紅外光譜分析儀等也用。
13
硫化氫-H2S
99.999%,用作標準氣、校正氣；用于半導體器件制備工藝中等離子干刻,化學工業中用于制備硫化物,如硫化鈉,硫化有機物；用作溶劑；實驗室定量分析用。
14
四氯化碳-CCl4
99.99%,用作標準氣；用于半導體器件制備工藝中外延丫、化學氣相淀積等工序；另外,用作溶劑、有機物的氯化劑、香料的浸出劑、纖維的脫脂劑、滅火劑、分析試劑、制備氯仿和藥物等。
15
氰化氫-HCN
99.9,用于半導體器件制備工藝中等離子干刻工序；制備氫氰酸溶液,金屬氰化物、氰氯化物；也用于制備丙烯睛和丙烯衍生物的合成中間體。
16
碳酰氟-COF2
99.99%,用于半尋體器件制備工藝中等離子干刻工序；另外,用作氟化劑。
17
碳酰硫-COS
99.99%,用作校正氣；用于半導體器件制備工藝中離子注入工序；也用于有些羧基、硫代酸、硫代碳酸鹽和噻唑的合成。
18
碘化氫-HI
99.95%,用于半導體器件制備工藝中離子注入工序；還用于氫碘酸溶液制備。
19
嗅化氫-HBr
99.9%,用于半導體制備工藝中等離子干刻工序；用作還原劑,制備有機及無機澳化合物。
20
硅烷-SiH4
99.999%,電阻率 100Ω/cm2,用于半導體器件制備工藝中外延、化學氣相淀積等工序。
21
乙硅烷-Si2H6
99.9%,用于半導體制備工藝中化學氣相淀積。
22
磷烷-PH3
99.999%,用于半導體器件制備工藝中外延、擴散、化學氣相淀積、離子注入等工序；磷烷與二氧化碳混合的低濃度氣體,可用于殺死糧倉的蟲卵和制備阻火化合物。
23
砷烷-AsH3
99.999%,用于半導體器件制備工藝中外延、擴散、化學氣相淀積、離子注入等工序。
24
硼烷-B2H6
99.995%,用于半導體器件制備工藝中外延、擴散、氧化等工序；用于有些化學工業合成過程:如氫硼化反應(即生成醇類),有機功能的衰退,制備較高的硼烷衍生物和碳甲硼烷化合物。
25
鍺烷-GeH4
99.999%,用于半導體器件制備工藝中外延、離子注入工序。
26
銻烷-SbH3
99.999%,用于半導體器件制備工藝中外延、離子注入工序。
27
四氧甲硅烷-Si(OC2H5)4
99.99%,用于半導體器件制備工藝中化學氣相淀積工序。
28
乙烷-C2H6
99.99%,用作標準氣、校正氣、在線儀表標準氣；用于半導體器件制備工藝中等離子干刻工序；還用于冶金工業的熱處理,化學工業中制備乙醇、氧化乙二醇、氯乙烯、高醇類、乙醛等。
29
丙烷-C3H8
99.99%,用作標準氣、校正氣、在線儀表標準氣；用于半導體器件制備工藝中等離子干刻工序；另外,用于燃料、冷凍劑、制備乙烯與丙烯的原料。
30
硒化氫-H2Se
99.999%,用于半導體器件制備工藝中擴散、離子注入工序。
31
碲化氫-H2Te
99,999%,用于半導體器件制備工藝中擴散、離子注入工序。
32
二氯二氫硅-SiH2Cl2
99.999%,用于半導體器件制備工藝中外延、化學氣相淀積工序。
33
三氯氫硅-SiHCl3
99.999%,用于半導體器件制備工藝中外延、化學氣相淀積工序。
34
二甲基碲-(CH3)2Te
99.999%,用于半導體器件制備工藝中擴散、離子注入工序。
35
二乙基碲-(C2H5)2Te
99.999%,用于半導體器件制備工藝中擴散、離子注入工序。
36
二甲基鋅(CH5)2Zn
99.999%,用于半導體器件制備工藝中化學氣相淀積工序。
37
二乙基鋅(C2H5)2Zn
99.999%,用于半導體器件制備工藝中化學氣相淀積工序。
38
三氯化磷-PCl3
99.99%,用于半導體器件制備工藝中擴散,鍺的外延生長和離子注入工藝；PCl3是有機物的良好氯化劑；也用于含磷有機物的合成。
39
三氯化砷-AsCl3
99.99%,用于半導體器件制備工藝中的外延和離子注入。
40
三氯化硼-BCl3
99.99%,用于等離子干刻、擴散；作硼載氣及一些有機反應的催化劑；精煉鎂、鋅、鋁、銅合金時從溶化金屬中除掉氮、碳、氧化合物。
41
四氯化硅-SiCl4
99.999%,用于半導體器件制備工藝中外延、化學氣相淀積工序。
42
四氯化錫-SnCl4
99.99%,用于外延、離子注入。
43
四氯化鍺-GeCl4
99.999%,用于離子注入。
44
四氯化欽-TiCl4
99.99%,用于等離子干刻。
45
五氯化磷-PCl5
99.99%,用于外延、離子注入。
46
五氯化銻-Sb=Cl5
99.99%,用于外延、離子注入。
47
六氯化鑰-MoCl6
99.9%,用于化學氣相淀積。
48
三嗅化硼-BBr3
99.99%,用于半導體器件制備工藝中離子注入工序和制備光導纖維。
49
三嗅化磷-PBr3
99.99%,用于外延、離子注入。
50
磷酞氯-POCI3
99.999%,用于擴散工序。
51
三氟化硼-BF3
99.99%,用于離子注入；另外,可作載氣、某些有機反應的催化劑；精煉鎂、鋅、鋁、銅合金時從熔化金屬中除掉氮、氧、碳化物。
52
三氟化磷-PF3
99%,用于外延、離子注入工序；另外用作氟化劑。
53
三氟化砷-AsF3
99%,用于外延、離子注入工序；另外用作氟化劑。
54
二氟化氨-XeF2
99.9%,用于外延、離子注入工序；用于固定模具氨的考察及原子反應堆排放廢氣中氮的測定。
55
三氟氯甲烷-CClF3,(R-13)
99.995%,用于等離子干刻工序；冷凍劑、空調均可用。
56
三氟甲烷-CHF3,(R-23)
99.999%,用于等離子干刻工序;低溫冷凍劑。
57
三氟化氮-NF3
99.99%,用于等離子干刻工序;火箭推進劑、氟化劑。
58
三氟嗅甲烷-CBrF3,(R13B1)
99.99%,用于等離子干刻工序;還用于空調、低溫冷凍及滅火劑。
59
三氟化硼-11-B11F3
99.99%,用于離子注入工序(天然硼的同位素,含11B8l%,10B19%。出售的11B是濃縮含有96%同位素BF3);還用于制備光導纖維。
60
四氟化碳-CF4,(R-14)
99.99%,用于等離子干刻工序;在很低溫度下作為低溫流體用;也用于中性及惰性氣體。
61
四氟化硫-SF4
98%,用于等離子干刻工序;氟化劑、表面處理劑。
62
四氟化硅-SiF4
99.99%,用于化學氣相淀積工序;制備氟硅酸及其鹽類。
63
四氟化鍺-GeF4
99.999%,用于離子注入工序。
64
五氟化磷-PF5
99.9%,用于離子注入、等離子干刻工序;另外,用作氟化劑,聚合、烴化及脫烴化反應、烴類裂化反應時作催化劑。
65
五氟氯乙烷-C2ClF6,(R-115)
99.99%,用于等離子干刻工序;另外,作冷凍劑、煙霧噴氣劑。
66
五氟化砷-AsF5
99%,用于外延、離子注入工序,氟化劑。
67
六氟乙烷-C2F6,(R-116)
99.99%,用于等離子干刻工序;用作冷卻、冷凍劑和空調;單體生產的原料;化學反應中的添氟劑、電器設備的絕緣劑。
68
六氟化硫-SF6
99.99%,用作標準氣;用于化學氣相淀積工序;由于在高電壓下具有很高的電阻,用作電器設備的絕緣劑;檢漏氣體,實驗室中作色譜儀的載氣。
69
六氟化鎢-WF6
99.99%,用于化學氣相淀積工序;強烈的氟化劑;也用作鎢載體。
70
六氟化氧-(CF3)2O2
99.99%,用于等離子干刻工序。
71
六氟乙酰-(CF3)2CO
99.99%,用于等離子干刻工序。
72
六氟乙酞氧-(CF3CO)2O
99.99%,用于等離子干刻工序。
73
六氟化錸-ReF6
97%,用于離子注入工序;氟化劑。
74
八氟丙烷-C3F8,(R-218)
99.9%,用于等離子干刻工序;與氟利昂相混合作冷凍劑;高壓電的絕緣劑。
75
八氟環丁烷-C4F8,(RC318)
99.99%,用于等離子干刻工序;用作冷卻劑、冷凍劑;作電器和電子設備的氣體絕緣。
76
十二氟戊烷-C5F12
99.9%,用于等離子干刻工序;也可與CF4相混用。
77
三甲基鋁-(CH3)3Al
99.999%,用于化學氣相淀積工序;金屬的有機合成。
78
三甲基鎵-(CH3)3Ga
99.999%,用于化學氣相淀積工序;金屬的有機合成。
79
三甲基銻-(CH3)3Sb
99.999%,用于化學氣相淀積工序;金屬的有機合成。
80
三甲基錮-(CH3)3In
99.999%,用于化學氣相淀積工序;金屬的有機合成。
81
三乙基鋁-(C2H5)3Al
99.999%,用于化學氣相淀積工序;金屬的有機合成。
82
三乙基鎵-(C2H5)3Ga
99.999%,用于化學氣相淀積工序;金屬的有機合成。
83
四乙基鉛-(C2H5)4Pb
99.999%,用于化學氣相淀積工序。
84
丙烯腈-C3H3N
99.9%,用于等離子干刻工序。
85
1,1,2-三氯乙烯-C2HCl3
99.99%,用作標準氣、校正氣、醫療氣;用于半導體器件制備工藝中熱氧化工序;另外,用于金屬的脫脂劑和脂肪、油、石蠟等萃取劑,衣服干洗,冷凍劑,殺菌劑。
86
甲烷-CH4
99.999%,用作標準氣、校正氣、在線儀表標準氣;作燃料、宇宙飛船中氣體電池。
87
甲烷硫醇-CH3SH
99.5%,用作標準氣、校正氣;用于有機合成;作為噴氣燃料添加劑,殺真菌劑和蛋氨酸的中間體。
88
一甲胺-CH3NH2
99%,用于硫化促進劑、藥物、染料和炸藥等,并作溶劑、有機合成、醋酸人造纖維。
89
甲醇-CH3OH
99.9%,用作標準氣,與空氣混合后作校正氣;用于制備甲醛和農藥鄉用于有機物質的萃取劑和酒精的變性劑。
90
二甲胺-(CH3)2NH
99%,用作抗氧化劑;在溶液中作浮洗.劑、汽油穩定劑、橡膠加速劑等。
91
二甲醚-(CH3)2O
99.9%,在化學工業中用作配制合成橡膠和甲硫醚;用作甲基劑、萃取劑、溶劑;也用作制冷劑。
92
乙炔-C2H2
99.9%,用作標準氣、校正氣;化學工業中的中間體,如制備乙烯、乙醛、醋酸乙烯、氯乙烯、乙烯醚等;用于原子吸收光譜。
93
乙烯-C2H4
99.99%,用作在線儀表標準氣、標準氣、校正氣;是化學工業合成中的重要原料,生產塑料的中間體,生產乙醇、醋酸、氧化乙烯、氯乙烯、乙苯等的原料;也用于焊接和切割、冷凍劑、某些水果、蔬菜生長的加速劑。
94
氧化乙烯-C2H4O
99.9%,用作標準氣、校正氣、醫療氣;與CO2、R11、R21相混合作消毒劑,文物保管,皮革消毒,清洗衣料均可采用;化學工業中用作中間體,生產液體或固體聚乙二醇、乙醇胺類等。
95
溴代乙烯-C2H3Br
99.9%,用作有機合成的中間體,用聚合法與共聚法來制備塑料。
96
一乙胺-CH3CH2NH2
99%,水溶液中含有70%乙胺,作為下列化學工業制備中的中間體:著色劑,電鍍池、硫化增速劑等;還用于制藥、表面活性劑、萃取劑。
97
四氟乙烯-C2F4
99%,在生產塑料時作為一種重要的單體,如泰氟隆等。
98
乙醛-CH5CHO
99.9%,用作校正氣;用于制備酷酸、醋醉、醋酸乙酷、正丁醇、合成樹脂等。
99
二甲基二硫醚-CH3S2CH3
＞99.9%,用作校正氣、溶劑。
100
二甲基硫醚-CH3SCH3
99.9%,用作校正氣、溶劑。
101
乙醇-C2H5OH
99.9%,用作校正氣;用于溶劑,制備染料、涂料、藥物、合成橡膠等。
102
乙酰氯-CH3COCl
99.99%,用于乙酰化劑和化學試制。
103
1-羥亞乙基-1,1雙磷酸-C2H8P2O7, 99.99%,簡稱HEDPA
用于特殊的洗滌、紡織漂白分離劑、磨料和環境衛生;在石油和氣田中用作防腐劑。
104
環丙烷-(CH2)3
99%,用于有機合成;醫藥上作麻醉劑。
105
甲基乙炔-C3H4
99%,用作在線儀表標準氣、校正氣;用于制備丙酮;化學工業中作合成中間體。
106
六氟丙酮-CF3COCF3
99.9%,是強烈的反應氣,常與脂肪酮發生化學反應,用這些酮類可制備不同的產品,如穩定的液體、溶劑、水泥、單體、共聚物,以及農業及藥物產品。
107
三甲胺-(CH3)3N
99%,用作標準氣,溶液中含25%的三甲胺可作抗組胺治療處理;在化學工業中作中間體,用來生產殺蟲劑、潤濕劑、發泡劑、合成樹脂等表面活性劑。
108
丙烯-C3H8
99.9%,用作標準氣、校正氣、在線儀表標準氣;在化學工業上用作制備異丙醇、氧化丙烯、氧基醇類、四氯化碳、聚丙烯等。
109
丙二烯-C3H4
99%,在線儀表標準氣;用于有機合成中間體。
110
氧化丙烯-C3H6O
99.9%,(又稱1,2-環氧丙烷),用于制備丙二醇和泡沫塑料;也是醋酸纖維素、硝酸纖維素和樹脂等的溶劑。
111
甲基乙烯醚-CH3COCH3
99.5%,用作標準氣;用于有機合成中間體;塑料和合成樹脂制備時的原料及共聚物的生產。
112
六氟丙烯-C3F6
99.9%,用于有機合成中間體。
113
丙酰氯-CH3CH2COCl
＞99.9%,用于制備鹽酸、丙酸;用作氧化劑。
114
正丁烷-C4H10
99.99%,用作標準氣、校正氣;用作燃料,商業上主要和異丁烷混合用;化學工業中作制備中間體:乙烯、丙烯、丁烯等;作煙霧噴射劑;充入溫度計球作標準蒸汽壓型的壓力表;與氦混合用作電離粒子計算器。
115
異丁烷-iC4H10
99.99%,用作標準氣、校正氣;用作燃料,商業上主要和異丁烷混合用;化學工業中作制備中間體:乙烯、丙烯、丁烯等;作煙霧噴射劑;充入溫度計球作標準蒸汽壓型的壓力表;與氦混合用作電離粒子計算器。
116
乙基乙炔C4H5
99%,用作標準氣、校正氣;化學工業中作為合成中間體。
117
環丁烷-(CH2)4
99%,作為液體溶劑,或與其它溶劑混合使用;也可作為合成中間體。
118
丁烯-1-C4H8
99.9%,用作標準氣、校正氣;用于有機化合物的制備中間體;催化脫氫生成丁二烯。
119
順丁烯-2C4H8
99%,用作標準氣、校正氣;用于有機化合物的制備中間體;催化脫氫生成丁二烯、酸式硫酸鹽,加水生成丁醇-2等;也可用作溶劑。
120
反丁烯-2-C4H8
99%,用作標準氣、校正氣;用于有機化合物的制備中間體;催化脫氫生成丁二烯、酸式硫酸鹽,加水生成丁醇-2等;也可用作溶劑。
121
順與反丁烯-2-C4H8
99%,用作校正氣;用途同(119)。塑料和樹脂,生產尼龍-6;也是火箭燃料組成部分。
122
1,3丁二烯-C4H6
99%,用作校正氣;用聚合法和共聚法來生產合成橡膠、塑料和樹脂,生產尼龍-66;也是火箭燃料組成部分
123
異丁烯-iC4H8
99.9%,用作校正氣,用于有機中間體,使氧化產生丙酮和甲酸,在液相或氣相中催化使生成雙異丁烯等;也可用來制備合成橡膠,有很高的耐酸堿度;是良好的絕緣體。
124
八氟-2-丁烯-C4H8(全氟丁烯)
99.5%,用于有機合成中間體。
125
二甲乙基胺-(CH3)2NC2H5
99.99%,一接觸到氧化劑,反應劇烈;與二氧化碳混合,遇到汞會產生爆炸反應。
126
正戊烷-C5H12
99%,用作標準氣、校正氣;作溶劑及合成中間體。
127
異戊烷-iC5H12
99%,用作標準氣、校正氣;作溶劑及合成中間體。
128
2,2二甲基丙烷-C5H12,(又叫新戊烷)
99.9%,是生產異丁烯的原料,用于生產合成丁烯橡膠。
129
3-甲基-1-丁烯-C5H10,(甲基丁烯)
99.95%,用于有機合成中間體;也用于增加燃料的辛烷值;用于塑料的聚合。
130
特戊酰氯-(CH3)3CCOCl
99.99%,可制備氯化氫與特戊酸;可與強氧化劑反應。
131
苯-C5H6
99.999%,用作標準氣、校正氣、零點氣;是染料、塑料、合成像膠、合成樹脂、合成纖維、合成藥物和農藥的原料。
132
己烷-C6H14
99.9%,用作標準氣、校正氣;作溶劑。
133
三乙基鋁三氯-C6H15Al2Cl3
99.99%,用于合成中間體;烯類聚合催化劑,芳烴衍生物聚合的催化劑。
134
環己烷-C6H12
99.99%,用作標準氣;用于制備環己醇和環己酮;用于合成耐6;在涂料工業中廣泛用作溶劑,也是樹脂、脂肪、石蠟、油類的極好溶劑。
135
己二酞氯-ClOC(CH2)4COCl
99.99%,用于制備氯化氫與肥酸。
136
甲苯-C7H8
99.99%,用作零點氣、校正氣;用于制造糖精、染料、藥物和炸藥等;也用作溶劑。
137
苯乙烯-C8H8
99.9%,用作校正氣;用于制樹脂、塑料、合成橡膠等。
138
2-乙基己酰氯-C5H10,C2H5,COCl
99.9%,可用于制備氯化氫和2-乙基己酸。
139
辛酰氯-CH3,(CH2,)6COCl
99.9%,是氧化劑;可用于制備鹽酸與辛酸。
140
氨基咪哇酮-C9H15,N3O3
99.9%,用作還原劑。
141
壬酰氯-CCH3(CH2)7COCl
99.9%,用于制備鹽酸與壬酸。
142
新癸酰氯-C10H19OCl
99.9%,用于制備鹽酸與新癸酸。
143
三異丁基鋁-C12H27,Al,(簡稱TIBA)
99.99%,用于合成中間體,是聚合烯類和二烯類的催化劑。
144
十二酰氯-CH3(CH2)10COCl
99.9%,用于制備鹽酸與月桂酸。
145
十八酰氯-CH3(CH2)18COCl
＞99.9%,用于制備鹽酸與硬醋酸。
146
酚酞黃-C20H14O4
99.9%,醫療用作瀉藥。
147
空氣(或合成空氣)-21%O2,79%N2,用作零點氣
超零點級空氣中含CnHm 0.lppm,零點級空氣中含CnHm 0.2ppm。零點級空氣經常用于色譜儀火焰離子化檢定器和總碳量分析儀中的氧化劑。
148
仲氫-H2
99.99%,用作火箭推進劑;核工業中用于氣泡室;冷電子工程低溫液態供固體電路研究用。
149
純水-H2O
99.9999%,用作標準氣、校正氣。
150
氖-Ne
99.999%,用作標準氣、特種混合氣;用于充發光燈泡、電子管、訊號燈、等離子體研究、熒光燈中啟動器、火花室、蓋革一彌勒管、
激光器;用作低溫冷卻劑。
151
氪氣-Kr
99.995%,用作標準氣、特種混合氣、燈泡與電子工業用氣。
152
氙氣-Xe
99.995%,用作標準氣、特種混合氣,用于電光源、電子工業、充填閘流管和半波整流管。
153
溴氣-Br2
99.99%,用于化學工業中制備澳化氫和其它嗅化合物、氧化劑、實驗試劑;也用于染料和攝影工業。
154
臭氧-O3
99.99%,用作醫療氣,用于外科設備的消毒,人類用水和游泳池的凈化,工業廢品的處理,污物消毒;紡織纖維、紙漿和糖類的漂白,樟腦的制備,礦物油及其衍生物的凈化。
155
氰氣-C2N2
99%,用作焊接與切割耐熱金屬,與氧化劑、臭氧和氟氣混合后作火箭與導彈推進劑;醫學上作薰蒸劑;用于許多有機合成中的媒介物。
156
氯化氰-ClCN
99%,用于有機合成;與薰蒸氣體相混合可作熱源。
157
氟化氫-HF
99.9%,用于制備氟化物、氟氣;在異構化、冷凝過程、聚合、干燥、水解反應等作為催化劑;在有些有機或無機反應中作為氟化劑。
158
亞硝酰氯-NOCl
99%,用于有機化合物的重氮化、硝化、氯化作用;也用于石油熟化劑。
159
過氟二氯氧ClO3F
99%,用于與氟鹵素類相混合,成為火箭發動機的液態氧化劑;也可供街族化合物作選擇性的氟化劑。
160
碳酰氯-COCl2,(光氣)
99.9%,用于染料、藥物、除蕎劑、殺蟲劑、合成泡沫、樹脂和聚合等有機合成;還用作氯化劑。
161
硫酰氟-SOF2
99.5%,用于制備氟碳化合物;是優良的殺蟲薰蒸劑,用于集裝箱、農作物種子、林木種子的薰蒸,倉庫、古建筑、園林果木蛀干性害蟲及白蟻的防治,以及文物檔案的保護;也用作催化劑。
162
羰基鎳-Ni(CO)4
99.95%,用于制備高純鎳;制成金屬鏡及很薄的鎳箔;是碳化反應中有效的催化劑。
163
羰基鐵-Fe(CO)5
在有的文獻中寫成Fe(CO)4〕, 99.95%,主要作鐵的載體,在汽油中作抗爆劑。
164
磷酸-H3PO4
99.99%,用作校正氣;用于制磷酸鹽、甘油磷酸醋、磷酸按肥料;還作化學試劑。
165
過氙酸鈉-Na4XeO6·8H2O
99.99%,強氧化劑,可測定水中汞含量。
166
一氧化碳-CO
99.995%,用作標準氣、校正氣、在線儀表標準氣;與氫和其它氣體混合作燃料氣;用于從含有鐵、鉆和銅的礦砂中回收鎳;也可用于制備酸類、醚類和醇類化學品。
167
二氧化硫-SO2
99.99%,用作標準氣、校正氣、在線儀表標準氣;用于啤酒、葡萄酒、肉類的防腐;硫化物和氧硫化物的制備;油類和食品的漂白劑;硫化紙漿的制備;制冰工業的冷卻劑。
168
二氧化氮-NO2(N2O4)
99.9%,用作標準氣;用于一些氧化反應的催化劑;在丙烯酸鹽類精餾時用于防止聚合,用作有機物的硝化劑、氧化劑、火箭燃料一、面粉漂白劑。
169
二氟化氧-OF2
99.5%,用作氧化劑,是高能火箭推進劑系統中的組成部分。
170
三氧化二氮-N2O3
99.5%,與堿化合生成純堿亞硝酸鹽類;在特殊燃料系統中作氧化劑,也用于萜烯類的鑒定。
171
三氧化氙-XeO3
99.99%,用于通過氧化還原代替測定氧化溶液的含量(Xe6→Xe0)。
172
三氧化硫-SO3
99.99%,用于化學工業中制備硫酸與發煙硫酸;是硫化劑;也用于染料工業。
173
三氟化氯-ClF3
99.5%,用作火箭導彈推進劑,當接觸到燃料時(自發能力)能使其立刻開始反應;也用作油井管道切割劑,管道深達2公里也可用它來切斷管子。
174
三氟化溴-BrF5
99.5%,用作氟化劑和電解溶劑;也用于火箭導彈的推進劑。
175
四氟化氮-N2F4
99.9%,強氧化劑,可制備三氟化氮。
176
四氟化氙-XeF4
99.9%,可用于制備過氙化合物和三氧化氙溶液。
177
五氟化溴-BrF5
99%,用作氟化劑;也用于火箭導彈的推進劑。
178
五氟化氯-ClF5
99%,強烈的氧化劑,腐蝕性比三氟化氯小,可制備有機及無機氟化物;可作空間推進器的助燃劑。
179
五氟化碘-IF5
99%,用作氟化劑和燃燒劑。
180
六氟化鉬-MoF5
99.9%,強烈的氟化劑,也用于鑰的載體。
181
六氟化鉬-MoF5
99.9%,強烈的氟化劑,也用于鑰的載體。
182
氟三氯甲烷(R11)-CCl3F
99.95%,用于冷凍工業、空調、溶劑
、滑冰場、鹽水和海水裝置、煙霧噴射劑、發泡劑、檢漏、紡織品的干洗。
183
二氟二氯甲烷(R12)-CCl2F2
99.9%,用作標準氣、校正氣;用于低溫空調、食品貯藏、冷凍工業、煙霧噴射劑、檢漏、膨脹劑、氣相絕緣材料。
184
二氟氯溴甲烷(R12B1)-CBrClF2
99.9%,用于石油、丙酮、二硫化碳生產中及電器著火時的滅火劑。
185
二氟二溴甲烷(R12B2)-CBr2F2
99.9%,用于快速聚合;用作滅火劑。
186
二氯氟甲烷(R21)-CHCl2F
99.9%,用于氣候很熱時的空調、冷凍劑、溶劑、煙霧噴射劑、化學媒介物。
187
二氟氯甲烷(R22)-CHCiF2
99.9%,用于冷卻和空調;在低溫噴霧特
殊情況下作煙霧噴射劑;氟化聚合物的生產和檢漏。
188
二氟甲烷(R32)-CH2F2
99%,用作冷凍劑,與五氟氯乙烷(R115)混合后形成共沸混合物的冷凍劑。
189
氯甲烷(R40)–CH3Cl
99.5%,用作冷凍劑,局部麻醉處理;氣溶膠工業中當作噴射氣體;有機合成中用作甲基劑;作溶劑或萃取劑。
190
溴甲烷(R40B1)-CH3Br
99.9%,用于有機合成(著色劑)中甲基劑;低溫溶劑、冷凍劑;土壤與種子的薰蒸劑。
191
氟甲烷(R41)-CH3F
99.9%,以混合物用作非燃燒性的煙霧噴射劑。
192
l,1,2,-三氯三氟乙烷(R113)-C2Cl2F3,(俗稱TTE)
99.9%,用作冷凍劑、傳熱介質;制備三氟氯乙烯(R1113)的中間媒介物。
193
1,2-二氯四氟乙烷(R114)-C2Cl2F4
99%,用作冷凍、冷卻、空調,單獨與二氟二氯甲烷(R12)混合作為化妝品煙霧噴射劑。
194
1,2-二嗅四氟乙烷(R114B2)-C2Br2F4
99.5%,用作溶劑、滅火劑,與其它氟碳化合物相混合作噴射劑。
195
五氟氯乙烷(R115)-C2ClF5
99.9%,用作冷凍劑、煙霧噴射劑。
196
二氟氯乙烷(R142B)-C2H3ClF2
99%,用作冷凍劑、溶劑、與非燃燒性的鹵碳類化合物相混合作噴射劑。
197
三氟乙烷(R143)-C2H3F3
99.9%,用作冷凍劑。
198
1,1-二氟乙烷(R152A)-C2H4F2
99%,用作冷凍劑、煙霧噴射劑、有機合成中間媒介物。
199
氯乙烷(R160)-C2H3Cl
99.9%,用于局部麻醉的醫療處理,外科和皮膚科的噴霧醫療;在染料工業中當作乙基劑、冷凍劑、溶劑、殺蟲劑的生產。
200
氟乙烷(R161)-C2H5F
99.9%,用于合成中間媒介物。
201
R-12與R152A共沸混合物(R500)-CCl2F2/C2HF5
99.9%,用作冷凍劑、空調。
202
R-22與R115共沸混合物(R502)-CHClF2/C2H4F2
99.9%,用作冷凍劑、空調、噴霧。
203
R-23與R13共沸混合物(R503)-CClF3/CHF3
99.9%,用作冷凍劑、空調。
204
全氟丁烷(R601)-C4F10
99%,用作絕緣氣體。
205
三氟氯乙烯(R1113)-C2ClF3
99%,用于制備潤滑脂、油類、
蠟類、塑料的聚合劑,聚三氟氯乙烯的單體。
206
三氟溴乙烯(R113B1)-C2BrF3
99%,用于聚合反應和化學中間體。
207
二氟氯乙烯(R1122)-C2HClF2
＞99.9%,用于化學合成中間體。
208
1,1-二氟乙烷(R1132A)C2H2F2
99%,是一個很重要的單體,用于生產塑料及彈性體。
209
氯乙烯(R1140)-C2H3Cl
99.9%,用作標準氣;用作聚合劑、有機合成的中間體。
210
氟乙烯(R1140)-C2H3F
99.9%,用作聚合劑、有機合成的中間體。
211
氦-3–He3
99.99%,充計數管;作稀釋制冷機超低溫冷源,可達4.5×10-3K。
212
氦-4-He4
99.99%,在空間應用的低溫火箭燃料、核反應堆中重水及所有常溫與低溫的液體均可用氦-4作壓送氣。
213
氘-D2
99.95%,在核工業研究中應用在氖核加速器中作為拋射體;當放射丫能射線時作為中子源;在研究化學反應時,包括氫化合物,可作為軌跡用;用于生產重水(D2O)。
214
氚-T2
99.95%,用作標準氣,控制每升為1000微居里,有很廣泛的活潑性,與氖氬混合作為載氣,可用于檢測微量氮氣及其它稀有氣體。’
215
氧-18-O218
99%,可制備H218O、D218O、S18O2。
216
氮-15-N215
99%,可制備15NH3、16NO、15NO等。
217
氬-36–Ar36
99.99%,計量值用。
218
氬-40-Ar40
99.99%,計量值用。
219
氖-20Ne20
99.99%,計量值用。
220
氖-22Ne22
99.99%,計量值用。
221
氪-85-Kr85
99.99%,標準氣,控制每升為10微居里,充燈泡用。
222
氪-86-Kr86
99.9%用作標準氣。
223
氙-133-Xe133
99.9%,充燈泡用。
224
碳-13-C13
99%,可制備13CO2、13C6H8、13CO、13COS、13C2H4等。
225
碳-14-C14
99%,用作標準氣,控制每升為100微居里。
226
碳-18-C18
99.99%,可制備C18O2、C18O。
227
硫-35-S35
99%,用作標準氣,控制每升為100微居里。
228
二甲基鎘-(CH3)2Cd
純度＞99.999%,電子氣,用于MOCVD。
229
二乙基鎘-(C2H5)2Cd
99.999%,電子氣,用于MOCVDo
230
四甲基錫-(CH3)4Sn
99.999%,電子氣,用于MOCVD。
231
四乙基錫-(C2H5)Sn
99.999%,電子氣,_用于MOCVD。
232
三甲基砷-(CH3)3As
99.999%,電子氣,用于MOCVD。
233
三乙基砷-(C2H5)3As
99.999%,電子氣,用于MOCVD。
234
三乙基銻-(C2H5)3Sb
99.999%,電子氣,用于MOCVD。
235
二乙基銦-(C2H5)2ln
99.9999%,電子氣,用于MOCVD。
236
二甲基銦-(CH3)2In,)
99.9999%,電子氣,用于MOCVD。
237
二乙基鎂-(C2H5)2Mg
99.999%,電子氣,用于MOCVD。
238
二甲基汞-(CH3)2Hg
99.999%,電子氣,用于MOCVD。
239
二乙基汞-(C2H5)2Hg
99.999%,電子氣,用于MOCVD。
240
三甲基磷-(CH3)3P
99.999%,電子氣,用于MOCVD
241
三乙基磷-(C2H5)3P
99.999%,電子氣,用于MOCVD。
422
三異丁基鋁-(i-C4H9)3AI
＞99.9999%,電子氣,用于MOCVD。
243
丙硅烷-Si3H8
99%,電子氣,用于CVD。
244
三氯化鋁-AlCl3
99.999%,電子氣,用于外延。
245
五氟化鉭-TaF5
99.9%,電子氣,用于離子注入。
246
五氟化鉈-TlF5
99.9%,電子氣,用于離子注入。
247
氯乙烯-C2H3Cl
99.9%,校正氣,用作冷凍劑。
248
氟乙烯-C2H3F
99.9%,校正氣,用于制聚乙烯樹脂和其它單體的共聚物。