氮氣幾乎為惰性的雙原子氣體，化學性質(zhì)極不活潑，氣體分子比氧分子大，不易熱漲冷縮，變形幅度小。氮氣主要用途有：化肥、氨、硝酸等化合物的制造，惰性保 護介質(zhì)，速凍食品、低溫粉碎等的制冷劑、冷卻劑，電子工業(yè)中的外延、擴散、化學氣相淀積、離子注入、等離子干刻、光刻等，還用作標準氣、校正氣、零點氣、平衡氣等。今天就為大家介紹一下氮氣流量對摻氮氧化鋅特性影響實驗。

  實驗使用反應式離子束濺鍍法沉積摻氮氧化鋅薄膜，采用陽極層離子源，以鋅為靶材，同時通入氬氣、氧氣及氮氣，探討氧/氮流量對摻氮氧氧化鋅薄膜的特性影 響。實驗結果顯示在氧流量0.5~4.0sccm，氮流量0.5~2.0sccm300°C下所沉積之氧化鋅薄膜皆具有ZnO(002)面擇優(yōu)成長特性。未摻氮之氧化鋅薄膜皆呈現(xiàn)壓縮應力，摻入氮后(002)繞射峰值往小角度偏移且半高寬增加，顯示c軸常數(shù)增加及晶粒減小。拉曼光譜分析未摻雜之氧化鋅得到氧化鋅E2(high)436cm-1及A1(LO)580cm-1震盪模式，摻氮后得到275cm-1、580cm-1及640cm-1的摻氮氧化鋅的局部震盪模式，代表氮已摻入氧化鋅薄膜中。霍爾量測顯示氧氣流量為1.0sccm時所沉積之摻氮氧化鋅在氮氣流量大于1.0sccm時可得電洞濃度1015~1017cm-3之p型氧化鋅。

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